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紫外消毒对管网多相界面中抗性基因的影响


张明露1  徐梦瑶1  王  礼1  王双玲1  王永京1  白  淼2  张  灿2
(1 北京工商大学环境科学与工程系, 北京  100048; 2 中国人民解放军疾病预防控制所, 北京  100071)

        摘要  抗生素抗性基因(Antibiotic Resistance Genes,ARGs)在饮用水系统各个环节中广泛分布,国内外研究大多集中在ARGs的来源和传播途径两方面,对于ARGs去除方面关注较少。采用CDC反应器模拟给水管网系统,对采集自水相(进水和出水)、生物膜相和颗粒物相的样品进行低压紫外线(Low Pressure-Ultraviolet,LP-UV)辐照,采用实时荧光定量PCR确定不同LP-UV辐照剂量对5种ARGs(ermA、ermB、ampC、aphA2和sulⅡ)的去除效果。多相界面中的5种ARGs经LPUV辐照后相对浓度均有不同程度的降低。当LP-UV辐照剂量达到40 mJ/cm2时,多相界面中的5种ARGs去除率分别为1.83~5.59 log(ermA)、0.19~4.32 log(ermB)、1.22~2.14 log(ampC)、1.22~2.98 log(aphA2)和9.51~11.66 log(sulⅡ)。结果表明LP-UV辐照对模拟给水管网系统的水相(进水和出水)、生物膜相和颗粒物相样品中5种ARGs污染均能起到有效的控制作用。
        关键词  饮用水系统  抗性基因  紫外消毒  荧光定量PCR



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